لیزر اگزایمر زنون فلوئورید (Xenon Fluoride Excimer Laser - XeF)، در فیزیک (Physics)
انواع لیزرها (Laser) را در آموزش زیر شرح دادیم :
لیزر اگزایمر زنون فلوئورید (Xenon Fluoride Excimer Laser - XeF) :
Xenon Fluoride (XeF) Excimer Laser در دو طول موج اصلی ۳۵۱ نانومتر (قوی تر) و ۳۵۳ نانومتر کار می کند. این لیزر از مخلوط گاز زنون، فلوئور و یک گاز بافر (نئون یا هلیوم) استفاده می کند. XeF نسبت به سایر لیزرهای اگزایمر، طول موج بلندتری در فرابنفش دارد و به دلیل ویژگی های خاص مولکول XeF، می تواند در دو حالت متفاوت (B→X و C→A) گسیل کند که طول موج های متفاوتی تولید می کنند. گسیل C→A در محدوده ۴۵۰-۵۲۰ نانومتر (مرئی) نیز ممکن است اما بازده کمتری دارد.
مکانیزم تشکیل XeF* : در تخلیه الکتریکی، اتم های زنون برانگیخته (Xe*) با مولکول های فلوئور (F₂) یا مولکول های حاوی فلوئور (مانند NF₃) واکنش داده و مولکول برانگیخته XeF* را تشکیل می دهند. برخلاف ArF و KrF که فقط یک حالت برانگیخته پایدار دارند، XeF دارای دو حالت برانگیخته B و C است که هر دو به حالت پایه X (دافعه) متصل هستند. انتقال B→X غالب است و نور ۳۵۱-۳۵۳ نانومتر تولید می کند. انتقال C→A گسیل وسیع تری در آبی-سبز دارد.
از لیزر XeF در تحقیقات علمی برای طیف سنجی، مطالعه دینامیک واکنش ها، و برهم کنش لیزر با ماده استفاده می شود. در پزشکی، برای درمان برخی بیماری های پوستی (پسوریازیس و ویتیلیگو) با نور فرابنفش (فتوتراپی) کاربرد دارد. در صنعت، برای پردازش مواد (حکاکی و تمیزکاری) و در لیتوگرافی (برای گره های قدیمی) استفاده شده است. همچنین در برخی نمایشگرهای لیزری و نورپردازی خاص کاربرد داشته است.
مزایای XeF شامل طول موج بلندتر که برای برخی کاربردهای پزشکی (نفوذ عمیق تر در پوست) مناسب است، و قابلیت تولید نور در محدوده مرئی (با انتقال C→A) است. معایب آن شامل بازده پایین تر نسبت به KrF و خورندگی ناشی از گاز فلوئور است. همچنین پایداری گاز XeF نسبت به KrF کمتر است. با ظهور منابع نوری دیگر مانند لیزرهای حالت جامد و لامپ های UV، کاربرد XeF کاهش یافته است، اما در تحقیقات خاص و فتوتراپی هنوز استفاده می شود. XeF یکی از متنوع ترین لیزرهای اگزایمر از نظر طیف گسیل است.
